پاورپوینت پوشش دهی توسط رسوب فیزیکی بخار ویژگی ها روش ها و کاربردها
شامل 19
اسلاید درقالب پاورپوینت و قابل ویرایش
فهرست برخی از مطالب :
روش های ایجاد پوشش های PVD:
رسوبدهی از طریق تبخیرسازی سطحی((Evaporation deposition
روش های ایجاد بخار
کاربردها
روش پراکنشی
انواع روش های پراکنشی
ویژگی های روش پراکنشی:
پوشش دهی یونی ((Ion Plating
مزایای پوشش های PVD
مزایا و معایب PVDنسبت به CVD
بخشی از متن فایل پاورپوینت:
واژه رسوبدهی فیزیکی بخار برای اولین بار در سال 1966 در کتاب vapor deposition) ) نوشته (J.M. Blocher ,J.H.Oxley ,C.F.Powell) عنوان شد اما خیلی قبل تر از آنها در سال 1838، آقای Michael faraday از روش PVD برای رسوب دادن پوشش های خاصی استفاده کرد.
یک نوع رسوبدهی تحت خلاء می باشد که این واژه عموماً برای هر نوع رسوبدهی فیلم های نازک توسط متراکم کردن مواد تبخیر شده بر روی یک سطح انجام می شود اطلاق می گردد.
عبارت رسوب فیزیکی بخار ( (pvdدر اصل برای رسوب دادن فلزات توسط انتقال در خلا و بدون انجام واکنش شیمیایی استفاده می شود.
